中山商事では、試薬・理化学機器の専門商社として研究開発・生産活動をトータルサポートさせて頂きます

イオンミリングは、SEMの試料などにイオンビームを照射して試料表面の原子を弾き飛ばすことで、
微細な傷・汚れの除去や多層膜の断面を得るときに用いる手法です。
本装置は試料ホルダを交換することで
(a)試料表面の均等なエッチング(表面加工)
(b)一部を露出させてマスキングした試料にイオンビームを照射し、断面を得るエッチング(断面加工)
の両方を可能とするハイブリッドモデルです。

また、断面ミリングの加工速度300µm/hrを実現し、イオンミリング処理時間を大幅に短縮することが
できます。
＜特長＞
・断面イオンミリング/平面イオンミリングに対応したハイブリッドタイプ
・断面ミリングの高スループット化を実現（加工時間を1/3に*1）
・着脱可能な試料ステージユニット
・卓上型のコンパクト設計で簡単操作
*1：日立ハイテク社従来製品（E-3500：2005年製）比

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• メーカー: 取扱会社：(株)日立ハイテク

タグ: 電子顕微鏡

登録日：2010年12月17日
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